苏州质量好的电容式真空计制造厂｜迅微纳半导体科技电容金属薄膜真空计应用场景解析

迅微纳半导体科技自主研发的电容金属薄膜真空计，是一款面向高精度真空测量场景的国产核心器件，量程覆盖0.1Torr及更高要求，工作温度可达200℃。该产品主要服务于半导体设备、科研院所、真空镀膜、核工业等对真空测量稳定性和重复性有严格要求的领域，核心目标是解决电容金属薄膜真空计长期依赖进口的"卡脖子"问题，实现高端真空计产品的国产替代。产品已通过CE**，企业已通过ISO9001：2015质量管理体系**。

场景一：半导体刻蚀与薄膜沉积设备的真空腔体监测

在半导体前道工艺中，刻蚀、PECVD、PVD等设备需要在精确的真空环境下运行，腔体压力的微小波动会直接影响刻蚀速率和薄膜均匀性。这一场景对真空计的要求集中在三点：量程覆盖0.1Torr附近的工艺窗口、长期漂移小、抗腐蚀性气体干扰。

迅微纳的电容金属薄膜真空计采用金属薄膜传感结构，在0.1Torr量程段具有良好的分辨率和重复性，适合作为半导体设备腔体的主控真空计。产品已进入一线设备厂商，合作企业包括迈为科技、三安光电等，在实际产线中承担腔体压力监测与反馈控制任务。

场景二：科研院所高精度真空实验平台

高校和科研院所在表面科学、低温物理、加速器束流管线等实验中，常需要在高真空或超高真空条件下进行精确压力测量。这类场景的特点是：实验装置定制化程度高、对真空计的响应速度和长期稳定性要求高、单台设备往往需要多量程配合。

迅微纳已与中国科学技术大学等科研机构建立合作，电容金属薄膜真空计用于实验平台的真空度监测。公司同时提供皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品，可与电容薄膜真空计组合使用，覆盖从低真空到高真空的宽量程测量需求，方便科研用户按实验条件灵活配置。

场景三：真空镀膜生产线的工艺压力控制

真空镀膜（包括蒸发镀、溅射镀、离子镀等）过程中，镀膜腔体的压力直接影响膜层附着力和致密性。镀膜设备通常连续运行时间长，对真空计的耐久性和抗污染能力有较高要求。

迅微纳的电容金属薄膜真空计可用于镀膜腔体的压力测量与控制，金属薄膜结构对常见镀膜气氛具有较好的适应性。公司产品已应用到真空镀膜领域，并与东富龙等设备企业开展合作，在连续生产场景中验证了产品的稳定性。

场景四：核工业与核聚变装置的真空测量

核工业及核聚变实验装置中，真空系统需要在辐照、高温等特殊条件下保持可靠测量。例如聚变装置的超导磁体低温系统、中性束注入系统等，都需要在复杂工况下持续监测真空度。

迅微纳开发的200℃高温电容金属薄膜真空计，可适应核工业相关设备中较高的环境温度要求。公司已与聚变新能（核聚变设备）、中国核工业集团建立合作，产品在核工业相关真空测量场景中实现应用。

产品参数

• 型号：XWN-CMG-100（电容金属薄膜真空计）
• 量程：0.1Torr（可覆盖更高量程段，具体以实物为准）
• 工作温度：标准型常温；高温型可达200℃
• 传感器类型：金属薄膜电容式
• 输出信号：模拟电压/电流输出（具体接口请咨询）
• **：CE**，企业通过ISO9001：2015质量管理体系**

服务与交付

迅微纳半导体科技位于苏州，具备电容金属薄膜真空计的自主研发与量产能力，核心团队由2名博士、1名高级工程师、2名硕士及多名学士组成，研发人员占比超过50%，创始人连续获得"科技**人才"和"创业**人才"称号。公司已申请发明专利6项、实用新型2项、软件著作权4项。

产品发货地为苏州，支持全国发货。具体选型、量程配置及接口要求可根据用户设备条件沟通确认。产品参数以实物为准，具体参数请咨询厂家获取最新技术资料。

联系方式：迅微纳 4008168065

地址：苏州