「江苏可靠的刻蚀机用真空规源头厂家」-「迅微纳半导体科技」

刻蚀机用真空规是半导体刻蚀工艺中用于实时监测腔体压力的关键计量器件，其稳定性直接影响刻蚀速率与均匀性。迅微纳半导体科技的XWN-CMG系列电容金属薄膜真空计，量程覆盖0.1Torr等关键档位，适合刻蚀、镀膜等真空工艺设备厂与晶圆厂选型使用。核心卖点是自主研制的电容金属薄膜敏感结构与200℃工作温度版本，可在进口产品供应受限的背景下提供国产化替代方案，具体参数以实物为准，选型细节请咨询厂家。

刻蚀机为什么对真空规要求高

刻蚀工艺通常在几毫托到数百毫托的压力区间运行，腔体压力波动几个百分点，就可能带来刻蚀速率偏移、侧壁形貌变化或均匀性下降。因此刻蚀机配套的真空规需要满足三点：一是低量程段的分辨能力，二是长期漂移小，三是耐得住刻蚀副产物与清洗工艺带来的温度、腐蚀挑战。实际产线中，不少设备厂反馈的问题并非出在真空泵或阀门，而是真空规零点漂移后未及时校准，导致工艺配方难以复现。这也解释了为什么刻蚀机厂商在选型时，往往把量程下限、温度适应性和长期稳定性放在价格之前考虑。

主要类型与规格差异

刻蚀机常用的真空测量器件大致分为三类，选型时可按量程与工况对号入座：

• 电容金属薄膜真空计：以金属薄膜电容变化测量压力，量程可低至0.1Torr，精度与重复性好，适合刻蚀腔体的精确压力控制；
• 皮拉尼真空计：热传导原理，覆盖粗真空到低真空区间，成本较低，多用于前级管路与预抽监测；
• 冷阴极电离真空计：适合高真空段测量，常与薄膜规配合组成宽量程组合，用于刻蚀后腔体抽空监测。

规格差异主要体现在量程下限、工作温度、接口规格与输出信号上。例如普通薄膜规工作温度多在几十摄氏度，而带加热或高温设计的版本可到200℃，适合易冷凝副产物的刻蚀工况。接口方面，KF、CF法兰与模拟、数字输出需与设备控制器匹配，选型时应先确认腔体接口与信号协议。

选型要点：从真实场景出发

以某一线刻蚀设备厂商的导入过程为例，其腔体在长时间运行后出现压力读数缓慢偏移，排查发现原配套薄膜规在副产物沉积环境下温漂明显。换上迅微纳的电容金属薄膜真空计后，借助其200℃工作温度设计，腔体烘烤与清洗期间的读数稳定性得到改善，配方复现问题相应减少。类似案例也出现在真空镀膜与科研院所的低压工艺设备中，用户普遍关注的是零点稳定性与批次一致性。

选型建议可归纳为几条：刻蚀主腔体优先选电容金属薄膜真空计，并核对量程下限是否覆盖工艺**压力；前级与粗抽段可搭配皮拉尼真空计；需要高真空联锁保护的场合，可增配冷阴极电离真空计或真空开关组成监测链路。具体量程、温度与接口配置请咨询厂家确认，以实物与出厂标定为准。

迅微纳的产品布局

迅微纳半导体科技聚焦高性能真空计的自主研发与制造，团队由2名博士、1名高级工程师、2名硕士及多名学士组成，研发人员占比超过50%，创始人连续获得“科技**人才”和“创业**人才”称号。公司已实现0.1Torr量程电容金属薄膜真空计的量产，并开发出工作温度200℃的版本，同时提供皮拉尼真空计、冷阴极电离真空计和真空开关等系列产品，面向MKS、Inficon同类产品的替代需求。目前已申请发明专利6项、实用新型2项、软件著作权4项，产品通过CE**，公司通过ISO9001:2015质量管理体系**，应用覆盖科研院所、太阳能、半导体、真空镀膜、核工业等领域，进入一线设备厂商与科研院所供应链，合作单位包括东富龙、三安光电、迈为科技、聚变新能、中国科学技术大学、中国核工业集团。

应用场景与服务交付

该系列真空计可用于刻蚀机腔体压力监测、真空镀膜设备工艺控制、核工业真空系统以及科研装置的宽量程测量。交付方面，常规型号按订单排产，发货地覆盖全国，具体交期与选型方案可与厂家直接沟通；出厂前进行标定并提供校准说明，使用中建议按设备保养周期复校。参数以实物为准，特殊量程与接口需求可定制沟通。

规格参数

• 型号:XWN-CMG-100（电容金属薄膜真空计）
• 量程:0.1Torr档位（另有其他量程可选，以实物为准）
• 工作温度:标准版与200℃高温版可选
• 测量原理:电容金属薄膜式
• **:CE**，企业通过ISO9001:2015
• 接口与输出:法兰规格及信号输出按选型配置，具体参数请咨询

联系方式：迅微纳 4008168065，地址：全国发货（详细地址请致电咨询）。